A lézeres tisztítás hatékony módszer a különböző anyagok és méretű szennyeződések szilárd felületeinek és filmrétegének eltávolítására. A nagy fényerejű és jó irányított folytonos vagy impulzusos lézer, az optikai fókuszálás és a lézersugár meghatározott foltformájának és energiaeloszlásának kialakítása érdekében, a tisztítandó szennyezett anyag felületére besugározva, a csatlakoztatott szennyező anyagok elnyelik a lézert. energiát, egy sor összetett fizikai és kémiai folyamatot, például vibrációt, olvadást, égést, sőt elgázosodást fog előidézni, és végül az anyag felületéről eltávolítja a szennyeződést Még akkor is, ha a lézer hatása a tisztított felületre, a túlnyomó többség visszaverődik. kikapcsolva, az aljzat nem okoz kárt a tisztító hatás elérése érdekében.A következő kép: menetfelület rozsdamentesítés és tisztítás.
A lézeres tisztítás különböző osztályozási szabványok szerint osztályozható. Mint például a lézeres tisztítási folyamatnak megfelelően a hordozó felületét folyékony filmmel borítják, száraz lézeres tisztításra és nedves lézeres tisztításra osztják. Az előbbi a lézeres szennyeződés felületének közvetlen besugárzása, az utóbbit a lézertisztító felület nedvesség- vagy folyadékfilmjére kell felvinni. Nedves lézeres tisztítás nagy hatékonyságú, de a lézeres nedves tisztításhoz folyékony film kézi bevonása szükséges, ami megköveteli, hogy a folyékony film összetétele nem változtathatja meg a szubsztrátum természetét maga az anyag megváltozik. Ezért a száraz lézeres tisztítási technológiához képest a nedves lézeres tisztításnak vannak bizonyos korlátozásai az alkalmazási kört illetően. A száraz lézeres tisztítás jelenleg a legelterjedtebb lézeres tisztítási módszer, amely a lézersugarat a munkadarab felületének közvetlen besugárzására használja a részecskék és vékony filmek eltávolítására.
LézerDry Cferde
A lézeres vegytisztítás alapelve a részecske és az anyag szubsztrát lézeres besugárzással, az elnyelt fényenergia azonnali hővé alakítása, ami a részecske vagy a szubsztrátum vagy mindkettő pillanatnyi hőtágulását idézi elő, a részecske és a hordozó között azonnali gyorsulás keletkezik, a gyorsítás által generált erő a részecske és a szubsztrát közötti adszorpció leküzdésére úgy, hogy a részecske a hordozó felületéről.
A lézeres száraztisztítás különböző abszorpciós módszerei szerint a lézeres száraztisztítás a következő két fő formára osztható:
1.Fvagy az olvadáspont nagyobb, mint a porrészecskék alapanyaga (vagy a lézerelnyelési sebesség különbségei): a részecskék a lézersugárzást erősebben abszorbeálják, mint a hordozó abszorpciója (a) vagy fordítva (b), ekkor a részecskék elnyelik a lézerfényt az energia hőenergiává alakul, ami a részecskék hőtágulását okozza, bár a hőtágulás mértéke nagyon kicsi, de a hőtágulás nagyon rövid idő alatt történik, így hatalmas pillanatnyi gyorsulás lesz a hordozón, míg a szubsztrát ellenhatás a részecskékre, az erő, hogy legyőzze a kölcsönös adszorpciós erőt, hogy a részecskék a szubsztrátumból, a vázlatos diagram elve az 1. ábrán látható módon.
2. A szennyeződések alacsonyabb forráspontjához: a felületi szennyeződések közvetlenül elnyelik a lézerenergiát, azonnali magas hőmérsékletű forrásban lévő párolgás, közvetlen párologtatás a szennyeződés eltávolítására, a 2. ábrán látható elv.
LézerWet CferdePalapelv
A lézeres nedves tisztítást lézeres gőztisztításnak is nevezik, szemben a száraz, nedves tisztítással a tisztító részek felületén vékony, néhány mikron vastagságú folyadékfilm vagy közegfilm, a folyadékfilm lézeres besugárzással. A folyékony film hőmérséklete azonnal megemelkedik, és nagyszámú buborékot hoz létre a gázosítási reakcióhoz, a részecskék és a szubsztrátum becsapódása által generált gázosítási robbanáshoz, hogy leküzdje az adszorpciós erőt között. A részecskék, a folyékony film és a szubsztrát szerint a lézer hullámhossz-abszorpciós együtthatója eltérő, a lézeres nedves tisztítás három típusra osztható.
1.Erős lézerenergia-elnyelése a hordozón
Lézeres besugárzás a hordozóra és a folyadékfilmre, a lézer abszorpciója a szubsztrátumban sokkal nagyobb, mint a folyadékfilmé, ezért a hordozó és a folyadékfilm határfelületén robbanásveszélyes párologtatás következik be, amint az az alábbi ábrán látható. Elméletileg minél szűkebb az impulzus időtartama, annál könnyebben keletkezik túlmelegedés a csomópontban, ami nagyobb robbanásveszélyes hatást eredményez.
2. A lézerenergia erős elnyelése a folyékony membránban
Ennek a tisztításnak az az elve, hogy a folyadékfilm elnyeli a lézerenergia nagy részét, és a folyadékfilm felületén robbanásveszélyes párologtatás következik be, amint az az alábbi ábrán látható. Ebben az időben a lézeres tisztítás hatékonysága nem olyan jó, mint a szubsztrát felszívódása esetén, mert ebben az időben a robbanás hatása a folyékony film felületére. Míg a szubsztrátum felszívódása, buborékok és robbanások a hordozó és a folyadékfilm metszéspontjában fordulnak elő, a robbanásveszélyes hatás könnyebben eltávolítja a részecskéket a hordozó felületéről, ezért jobb a hordozó abszorpciós tisztító hatása.
3.A hordozó és a folyékony membrán együttesen nyeli el a lézerenergiát
Jelenleg a tisztítási hatékonyság nagyon alacsony, a lézeres besugárzás után a folyadékfilmre a lézerenergia egy része elnyelődik, az energia szétoszlik a belsejében lévő folyadékfilmben, a folyadékfilm forralva buborékokat képez, a fennmaradó lézerenergia a folyékony filmen keresztül elnyeli a szubsztrát, amint az az ábrán látható. Ez a módszer több lézerenergiát igényel, hogy forrásban lévő buborékokat hozzon létre a robbanás előtt. Ezért ennek a módszernek a hatékonysága nagyon alacsony.
Nedves lézeres tisztítás a szubsztrát abszorpciójával, mivel a lézerenergia nagy részét a hordozó elnyeli, folyékony filmet hoz létre és a szubsztrátum csomópontja túlmelegszik, buborékok jelennek meg a felületen, szemben a száraz tisztítással, nedves a csatlakozási buborék robbanása. a lézeres tisztítás hatására, miközben megadhatja, hogy bizonyos mennyiségű vegyi anyagot a folyékony filmben és szennyező részecskéket adjon hozzá a kémiai reakcióhoz, hogy csökkentse a részecskéket és a szubsztrátot Az anyag közötti adszorpciós erőt a lézer küszöbének csökkentése érdekében tisztítás. Ezért a nedves tisztítás bizonyos mértékig javíthatja a tisztítás hatékonyságát, ugyanakkor vannak bizonyos nehézségek, a folyékony film bevezetése új szennyeződéshez vezethet, és a folyékony film vastagságát nehéz ellenőrizni.
TényezőkAbefolyásolja aQuralmaLaserCferde
HatásaLaserWavelhosszúság
A lézeres tisztítás előfeltétele a lézeres abszorpció, ezért a lézerforrás kiválasztásánál első sorban a tisztító munkadarab fényelnyelési jellemzőit kell kombinálni, megfelelő hullámhosszúságú lézert választani lézer fényforrásként. Ezenkívül külföldi tudósok kísérleti kutatásai azt mutatják, hogy a szennyező részecskék azonos jellemzőivel történő tisztítása esetén minél rövidebb a hullámhossz, annál erősebb a lézer tisztítóképessége, annál alacsonyabb a tisztítási küszöb. Látható, hogy a helyiség anyagi fényelnyelési jellemzőinek teljesítéséhez, a tisztítás hatékonyságának és hatékonyságának javítása érdekében tisztító fényforrásként rövidebb hullámhosszú lézert kell választani.
HatásaPowerDelsőség
A lézeres tisztításnál a lézerteljesítmény-sűrűségnek van egy felső károsodási küszöbe és egy alsó tisztítási küszöbértéke. Ebben a tartományban minél nagyobb a lézeres tisztítás lézerteljesítmény-sűrűsége, minél nagyobb a tisztító kapacitás, annál nyilvánvalóbb a tisztítóhatás. Ezért ne sértse meg a hordozóanyagot a tokban, a lehető legmagasabbnak kell lennie, hogy növelje a lézer teljesítménysűrűségét.
HatásaPUlseWidth
A lézer A lézeres tisztítás forrása lehet folyamatos fény vagy pulzáló fény, az impulzuslézer nagyon magas csúcsteljesítményt tud biztosítani, így könnyen teljesíti a küszöbkövetelményeket. És azt találták, hogy a hőhatások által okozott tisztítási folyamatban a szubsztrátumon a pulzáló lézer hatás kisebb, a folyamatos lézer, amelyet a régió hőhatása okoz, nagyobb.
AEhatásaSbefőzésSbepisil ésNszámaTimes
Nyilvánvalóan a lézeres tisztítás során minél gyorsabb a lézeres szkennelés, minél kevesebbszer, annál nagyobb a tisztítás hatékonysága, de ez a tisztítóhatás csökkenését okozhatja. Ezért a tényleges tisztítási alkalmazási folyamat során a tisztító munkadarab anyagjellemzőire és a szennyezési helyzetre kell alapozni a megfelelő szkennelési sebesség és a szkennelések számának kiválasztását. Az átfedési arány és így tovább szkennelése szintén befolyásolja a tisztítási hatást.
Hatása aAmount ofDfókuszálás
A lézeres tisztítás a lézer előtt többnyire a fókuszáló lencse és a lézeres tisztítás tényleges folyamatának egy bizonyos kombinációján keresztül történik a konvergencia érdekében, általában defókuszálás esetén, minél nagyobb a defókuszálás mértéke, minél nagyobb a folt, annál nagyobb az anyagra fényezés. szkennelési területen, annál nagyobb a hatékonyság. A teljes teljesítményben pedig biztos, hogy minél kisebb a defókuszálás mértéke, minél nagyobb a lézer teljesítménysűrűsége, annál erősebb a tisztítóképesség.
Összegzés
Mivel a lézeres tisztítás nem használ kémiai oldószereket vagy egyéb fogyóeszközöket, környezetbarát, biztonságos a működése és számos előnnyel rendelkezik:
1. zöld és környezetbarát, vegyszerek és tisztítóoldatok használata nélkül,
2. a tisztítási hulladék főleg szilárd por, kis méretű, könnyen összegyűjthető és újrahasznosítható,
3. A tisztítási hulladékfüst könnyen felszívódik és kezelhető, alacsony zajszint, nem károsítja a személyes egészséget,
4. Érintésmentes tisztítás, nincs közegmaradvány, nincs másodlagos szennyezés,
5. Szelektív tisztítás érhető el, nem sérti az aljzatokat,
6. Nincs működő közeg fogyasztás, csak áramot fogyaszt, alacsony használati és karbantartási költség,
7. Eaz automatizálás elérése, a munkaintenzitás csökkentése,
8. Alkalmas nehezen elérhető helyekre vagy felületekre, veszélyes vagy veszélyes környezetekre.
A Maven Laser Automation Co., Ltd. a lézeres hegesztőgép, lézertisztító gép, lézeres jelölőgép professzionális gyártója 14 éve. 2008 óta a Maven Laser különféle típusú lézergravírozó/hegesztő/jelölő/tisztító gépek fejlesztésére és gyártására összpontosított fejlett menedzsmenttel, erős kutatási erővel és állandó globalizációs stratégiával, a Maven Laser tökéletesebb termékértékesítési és szolgáltatási rendszert hoz létre Kínában, és szerte a világon, hogy a világ márkája a lézeriparban.
Továbbá nagy figyelmet fordítunk az értékesítés utáni szolgáltatásokra, a jó szolgáltatás és a jó minőség ugyanolyan fontos, mert a Maven Laser követi a "Hitelesség és integritás" szellemét, igyekszünk a lehető legjobban szuper terméket és jobb szolgáltatást nyújtani az ügyfeleknek.
Maven Laser - megbízható professzionális lézeres berendezések szállítója!
Üdvözöljük, hogy együttműködjön velünk, és mindenki számára előnyös legyen.
Feladás időpontja: 2023. május 05
